半导体图案化工艺流程之刻蚀
早期的湿法刻蚀促进了清洁(Cleansing)或灰化(Ashing)工艺的发展。而在如今,使用等离子体(Plasma)的干法刻蚀(Dry Etching)方法已
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钻石是电力电子产品的一种有前途的材料,因为它们具有很高的击穿电场,高导热性,及高电子和孔动性。然而,它们的物理硬度和对化学过程的容忍性阻碍了电气器件结构的制造。
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什么是光刻?光刻是集成电路(IC或芯片)生产中的重要工艺之一。简单地说,就是利用光掩模和光刻胶在基板上复制电路图案的过程。硅片上涂有二氧化硅绝缘层和光刻胶。光刻
引言雪崩耐量是功率器件性能评估的关键指标,那么什么是雪崩耐量呢?即向半导体的接合部施加较大的反向衰减偏压时,电场衰减电流的流动会引起雪崩衰减,此时元件可吸收的能
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摘要:文章介绍了集成电路用金属靶材的技术要求和制备工艺,并对金属溅射靶材发展趋势进行了预测和展望。(四川半导体微组装设备厂家)集成电路产业属于高端制造业,是信息
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